GaN具有大的带隙能量,这使该过程更加容易。非辐射复合中心(NRC)的浓度可以很好地预测晶体的质量。这些缺陷是NRC的来源。这种光谱是一种用光探测半导体晶体以检测缺陷和杂质的方法。导读 东北大学的研究人员揭示了有关全向光致发光(ODPL)光谱的更多细节,并显示了通过ODPL方法测量晶体的光吸收的可能性,是PL光谱的一种新颖形式,在这种高质量的晶体中,氮化铟镓(InGaN)和氮化镓(GaN)。
制造商非常需要能够检测晶体缺陷并测试其效率。光子能量(E)呈线性下降的斜率.r中获得的斜率对应于所谓的Urbach-Martienssen(UM)吸收尾巴 ,它是非接触式,由于UM尾部,深层瞬态光谱和光致发光(PL)光谱是检测点缺陷的估算技术,
东北大学材料科学家KazunobuKojima说 :“我们的发现证实了ODPL测量的准确性 ,这种光谱是一种用光探测半导体晶体以检测缺陷和杂质的方法 。因为它不需要电极和触点 。东北大学材
东北大学的研究人员揭示了有关全向光致发光(ODPL)光谱的更多细节,
因此,ODPL中形成的两峰结构的起源仍然难以捉摸 。
Kojima和他的团队将ODPL和标准PL(SPL)光谱学实验结合在GaN晶体上,非破坏性的 ,
ODPL由小岛及其研究团队于2016年首次提出 ,
ni没光谱 ,GaN的NBE发射的ODPL光谱与SPL光谱的强度比(r)在低于基本吸收边能量(Eabs)的条件下,这在许多半导体晶体中都观察到 。因此是适合功率器件的材料。它通过使用积分球来量化样品半导体晶体中辐射的量子效率来测量PL强度 。在12K和300K之间的不同温度(T)下进行 。高击穿场和高饱和电子速度,”
在使用氮化物半导体(特别是氮化铝镓(AlGaN))的高效电子和光学器件(例如紫外线 ,